Лазер газовый ЛГН-402, Киев

Лазер газовый ЛГН-402

ПАСПОРТ
I. ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ
Лазеры газовые ЛГН-502, ЛГН-503, ЛГН-402 предназначены для использования в системах связи и телевидения, вычислительной технике и других областях науки и техники.
Климатическое исполнение УХЛ 4.2 по ГОСТ 15150-69. Схема электрическая общая лазеров приведена в приложении. Лазеры по степени опасности генерируемого излучения относятся к 3 классу в соответствии, с классификацией по ГОСТ 12.1.040-83.

2. ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ

Длина волны генерируемого излучения 0,45-0,52 мкм

Спектральный состав лазерного излучения:

ЛГН-502 одномодовый

ЛГН-503 одномодовый

ЛГН-402 многомодовый

Мощность лазерного излучения:

ЛГН-502 2 Вт

ЛГН-503 1 Вт

ЛГН-402 4 Вт

Примечание. Эксплуатация лазеров должна производится при токе разряда, обеспечивающем мощность излучения не более 2,5; 1,5; 4,5 Вт для лазеров ЛГН-502, ЛГН-503, ЛГН-402 соответственно. Эксплуатация лазеров при мощности, превышающей указанные значения, может привести к сокращению их долговечности.
2.3. Надежность
2.3.1. Средняя наработка на отказ 500 ч.
2.3.2. Средний ресурс 5000 ч.
В течение среднего ресурса через время не менее 1000 ч заменяют активный элемент:
в ЛГН-502 - активный элемент ГЛ-ЗОЗА 0Д0.397.139 ТУ
в ЛГН-503 - активный элемент ГЛ-ЗОЗБ 0Д0.397.139 ТУ
в ЛГН-402 - активный элемент ГЛ-ЗЭЗВ 0 ДО. 397.139 ТУ
2.3.3. Средний срок сохраняемости
ЛГН-502 5 лет
ЛГН-503 2 года
ЛГН-402 5 лет
2.4. Малогабаритные размеры излучателя, мм, не более
длина 1105
ширина 530
высота 228
Масса излучателя, кг, не более 50
Габаритные размеры и масса источника питания в соответствии о формуляром 3.976.005 Ф0 на источник питания.

Лазеры для спектроскопии, голографии, дефектоскопии, оптического контроля, фото спектроскопии, фото скопии, научных исследований, химического анализа, газового анализа (газоанализатор), спектрального анализа, спектрофотометра, эталона частоты, контроля микро перемещений, физиотерапии, медицины, космических исследований, интерферометрии, интерферометра, ракетостроения, самолетостроения, прецизионных станков, изготовления микросхем, производства микросхем, микросхем, интегральных микросхем, информационных технологий, промышленности, оптики, оптических исследований, химии, физики, науки, НИИ, институтов, научно-исследовательских институтов и т.д.